混床对硅的去除率

发布于：2014-09-29 11:44:29 来自：给排水工程/纯水系统 [复制转发]

遇到一个项目，原水的浊度很低，电导最大约700，但是全硅最高有22mg/L，活性硅最大也有18mg/L。要求出水电导0.2，硅小于0.02mg/L,我想采用的方案是一级RO+混床，电导应该能达到，硅不太有把握。师傅建议用两级RO加EDI，来保证硅达标。要么就用特殊的树脂——硅树脂。但是这样感觉太烧钱，而且要求零排放的项目，感觉回收率没有用混床的高。
看了下规范，混床对进水硅含量没有写要求，但是EDI要求小于0.5,EDI对硅的去除率是95%以上。
请各位大侠帮忙分析下，一般混床对硅的去除率大概是好多？用一级RO+混床能不能达标？谢谢啦~~~

0人已收藏
0人已打赏
免费
0人已点赞
分享

复制链接新浪微博微信扫一扫

「给排水入门课」系列课程

课程总价值：¥ 1043

开通超级会员，以下所有课程免费学习

¥149.00

全部回复（9 ）

只看楼主我来说两句

liuguanchun 沙发

床子对硅的去除能力很有限，主要还是依赖反渗透

2016-02-24 16:26:24
回复举报
赞同0
阿里巴巴1112 板凳

除硅还真不懂，同求

2016-01-21 14:21:21
回复举报
赞同0

加载更多

猜你喜欢

阅读下一篇

请教一级反渗透为什么电导率降不下来，为什么？请各路前辈给几点意见？

请教一级反渗透为什么电导率降不下来，为什么？请各路前辈给几点意见？工艺：原水箱---原水泵----絮凝剂加药-----活性碳过滤器------阻垢剂加药----保安过滤器----高压泵----反渗透膜9支3芯膜壳（2：1排列）----产水箱调试：1、原水电导率为40000-39000； 2、产水电导要求：600以内； 3、膜选择用的是：SW30HRLE---4040，9支 4、膜前压力：39-40Mpa，一段和二段压力：40-41Mpa，膜后压力：42---43Mpa。

返回土木在线首页返回论坛首页