半导体材料氮氧化物酸洗废气处理工艺及原理介绍_废气处理方法

半导体（ semiconductor），指常温下导电性能介于导体（conductor）与绝缘体（insulator）之间的材料。半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用。如二极管就是采用半导体制作的器件。半导体是指一种导电性可受控制，范围可从绝缘体至导体之间的材料。无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。今日大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联。常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，而硅更是各种半导体材料中，在商业应用上最具有影响力的一种。

半导体材料生产过程中污染气体的主要成分为：一氧化二氮(N2O)、一氧化氮 (NO)、二氧化氮(NO2)、三氧化二氮 (N2O3)、四氧化二氮(N2O4)和五氧化二氮(N2O5)、HF等。

半导体材料氮氧化物酸洗废气工艺如下：

NOx废气的治理方法大致可以分为燃烧控制技术、炉内喷射吸收剂以及烟气脱硝技术等，按脱硝装置所处位置可分为生产过程中控制和过程后处理。工业废气中NOx的脱除技术一般采用过程后处理，又可分为干法和湿法两大类。 干法包括催化还原法、催化分解法、吸附法等。湿法包括碱吸收、还原吸收、氧化吸收和络合吸收等。与干法相比，湿法具有工艺设备简单、操作费用低廉、吸收剂种类多、适应性强等优点。从吸收液的成本考虑，可采用碱液吸收，其产生副产物NaNO2和NaNO3可以回收利用。

碱液吸收法：碱性溶液指的是钠、钾、镁等离子的氢氧化物或弱酸盐溶液。碱液吸收法不但可将NOx去除，所得亚硝酸盐产物还可用作防腐剂、防冻剂等，具有一定的市场价值。

KOH吸收液虽然反应活性相对值较高，因其价高货源少，所以使用的较少，实际广泛使用的吸收剂主要是NaOH 和Na2CO3。

具体配碱浓度还要依据实际运行情况不断调整以到达最优运行条件，液气比越大，空塔速度越低，净化效率就越高。

废气经管道收集后进入废气处理系统，废气经管道进入一级喷淋填料塔进行处理，其主要作用是利用碱性溶液吸收HF酸性气体、硝酸气体和部分NO2气体，其中Na2S起到还原作用，提高脱氮效率，之后废气再经过二、三级喷淋填料塔处理，之后废气通过风机、排气筒达标排放。此工艺不仅处理效率高，能高效去除污染物，而且运行维护费用低。

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