微滤浓缩分离膜装置污染物如何去除？

　　微滤浓缩分离膜装置污染物如何去除？微滤浓缩分离膜装置在经过长时间的使用后都会有污染物沉积在膜表面，常见的污染物包括碳酸钙垢、硫酸钙垢、金属氧化物垢、硅垢、有机沉积物等主要集中类型。常见污染物及其去除方法如下：

　　1、碳酸钙垢污染

　　在对设备添加一定量的阻垢剂后，如果装置出现故障就要内部添加酸，这时系统内部PH会逐渐升高，内部的碳酸钙会一点点沉积出来。需要特别强调的是PH值一定不能小于二，否则会造成膜表面的损伤，如果温度相对较高，pH不应大于十一。

　　2、微滤浓缩分离膜装置硫酸钙垢污染

　　这种污垢采用的方法就是利用清洗液进行去除。

　　3、金属氧化物垢污染

　　也可以采用上述方法，这样很简单的就将污染物逐渐沉积下来。

　　4、硅垢污染

　　对于不是与金属化物或有机物共生的硅垢，一般只有通过专业水处理的清洗方法才能将他们去除，有关的详细方法请与水处理专业公司联系。

　　5、有机沉积物污染

　　用清洗液循环清洗，以防再次进行繁殖，可使用经认可的杀菌溶液在系统中循环、浸泡，这个时间不宜过短，如果设备超过三天没有使用先进行消毒，采用专业杀菌剂。

　　如果以上污染发现及时的话，就可以防止污染物对微滤浓缩分离膜装置表面产生损伤，如过较早的发现，就能将内部pH值降至3-5之间，采取适当方法用一到两个小时就能去除掉，如果时间较长的话就需要使用柠檬酸清洗液进行循环清洗或通宵浸泡。