SICOLAB电镀废水治理设计规范（含氰废水）

一、化学法处理含氰废水宜采用碱性氯化法，其废水中氰离子的浓度不宜大于50mg／L。

二、采用碱性氯化法处理含氰废水时，应避免铁、镍离子混入含氰废水处理系统。

三、碱性氯化法处理含氰废水应采用二级氧化处理，当受纳水体的水质许可时，可采用一级氧化处理。

四、采用二级氧化处理含氰废水时，可采用图1的基本工艺流程。第一级氧化和第二级氧化所需氧化剂应分阶段投加。

图1二级氧化处理含氰废水的基本工艺流程

ORP-氧化还原电位监测仪

五、采用一级氧化处理含氰废水时，可采用图2的基本工艺流程。采用间歇式处理，当设置两格反应沉淀池交替使用时，可不设调节池。

图2 一级氧化处理含氰废水的基本工艺流程

ORP-氧化还原电位监测仪

六、含氰废水经氧化处理后，应根据其含其他污染物的情况进行后续处理。

七、处理含氰废水的氧化剂可采用次氯酸钠、漂白粉和二氧化氯等。氧化剂的投入量应通过氧化还原电位控制；也可按氰离子与活性氯的质量比计算确定，采用一级氧化处理时，质量比宜为1：3～1：4；采用二级氧化处理时，质量比宜为1：7～1 ： 8。

八、采用一级氧化处理含氰废水时，当采用次氯酸钠、漂白粉作氧化剂，反应过程pH值宜控制为10～11，当采用二氧化氯作氧化剂，反应过程pH值宜控制为11～11．5；当采用次氯酸钠、二氧化氯作氧化剂，反应时间宜为10min～15min，当采用漂白粉干投时，反应时间宜为30min～40min。采用二级氧化处理含氰废水，第二级氧化反应过程pH值宜控制为6．5～7．o，反应时间宜为10min～15min。

九、连续处理含氰废水时，反应pH值的控制和氧化剂的投药量应采用在线自动监控和自动加药系统，第一级氧化阶段氧化还原电位应为300mV～350mV，第二级氧化阶段氧化还原电位应为600mV～700mV。

十、反应池应采取防止有害气体逸出的封闭和通风措施。