应该如何提高芯片超纯水设备的产水率？

　　大家在使用芯片超纯水设备的过程中可能已经按照说明书上认真操作了，但是在长期运行过程中设备的反渗透膜上总会有污染物，从而使装置的性能(产水量和脱盐率)下降，组件进、出口压差升高。为此除日常启停装置前进行低压冲洗外，还需要进行定期化学清洗。芯片超纯水设备的产水量会下降，要查明原因，制定水处理对策。那么如何提高芯片超纯水设备的产水率?

　　1、按照设计的膜组件数量运行。

　　2、按照设计的基准压力运行。

　　3、当在大大超过基准压力的条件下运转就会发生膜组件的压密，必须更换膜组件。

　　4、按照设计温度25ºC运行。

　　5、当在75%以上回收率条件下运转时，浓水的水量就减少，这样膜组件内水的浓缩倍率就上升，结果造成给水水质严重下降。由于这种给水的渗透压上升，导致透过水量的减少。严重时，将在膜面上析出盐垢。必须按设计回收率产水。

　　6、每天进行低压冲洗。

　　7、改进预处理装置的运行管理，改善进反渗透水质用药品清洗膜组件。

　　关于芯片超纯水设备还有什么不明白的地方，请随时与莱特莱德工作人员联系。