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氦质谱真空检漏在PECVD中的应用氦质谱真空检漏在PECVD中的应用 真空检漏工作针对的就是漏气，也叫实漏，是指气体通过真空系统上的漏孔或间隙，从高压侧流向低压侧。有实漏，然后对应的有一个虚漏，它是指泄漏的气体是由于材料放气、解吸、凝结气体的再蒸发或系统内的死空间气体流出等原因使真空系统或容器压力升高，这也是真空检漏工作需要排除的。 ▲PECVD真空检漏 PECVD技术是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应。其优点是基本温度低；沉积速率快；成膜质量好，针孔较少，不易龟裂。
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