土木在线论坛 \ 给排水工程 \ 纯水系统 \ 混床对硅的去除率

混床对硅的去除率

发布于:2014-09-29 11:44:29 来自:给排水工程/纯水系统 [复制转发]
遇到一个项目,原水的浊度很低,电导最大约700,但是全硅最高有22mg/L,活性硅最大也有18mg/L。要求出水电导0.2,硅小于0.02mg/L,我想采用的方案是一级RO+混床,电导应该能达到,硅不太有把握。师傅建议用两级RO加EDI,来保证硅达标。要么就用特殊的树脂——硅树脂。但是这样感觉太烧钱,而且要求零排放的项目,感觉回收率没有用混床的高。
看了下规范,混床对进水硅含量没有写要求,但是EDI要求小于0.5,EDI对硅的去除率是95%以上。
请各位大侠帮忙分析下,一般混床对硅的去除率大概是好多?用一级RO+混床能不能达标?谢谢啦~~~

全部回复(9 )

只看楼主 我来说两句
  • liuguanchun
    liuguanchun 沙发
    床子对硅的去除能力很有限,主要还是依赖反渗透
    2016-02-24 16:26:24

    回复 举报
    赞同0
  • 阿里巴巴1112
    除硅还真不懂,同求
    2016-01-21 14:21:21

    回复 举报
    赞同0
加载更多
这个家伙什么也没有留下。。。

纯水系统

返回版块

6.51 万条内容 · 248 人订阅

猜你喜欢

阅读下一篇

请教一级反渗透为什么电导率降不下来,为什么?请各路前辈给几点意见?

请教一级反渗透为什么电导率降不下来,为什么?请各路前辈给几点意见? 工艺:原水箱---原水泵----絮凝剂加药-----活性碳过滤器------阻垢剂加药----保安过滤器----高压泵----反渗透膜9支3芯膜壳(2:1排列)----产水箱 调试:1、原水电导率为40000-39000; 2、产水电导要求:600以内; 3、膜选择用的是:SW30HRLE---4040,9支 4、膜前压力:39-40Mpa,一段和二段压力:40-41Mpa,膜后压力:42---43Mpa。

回帖成功

经验值 +10