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公共建筑设计
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赏析无锡美新半导体总部大楼项目名称:无锡美新半导体总部大楼(Wuxi Memsic Semiconductor Headquarter) 建筑师:UDG China项目地点:中国 无锡项目面积:14 057.36㎡摄影:Courtesy of UDG China该建筑综合体包含了办公、研发和制作空间。建筑形象和景观结构设计中采用了“方形”和“圆形”因素,反映了古老的阴阳理论。立面中突出强调了水平线条,每层中的无钢混凝土屋檐为2.5m。这不仅反映了传统建筑深邃的宁静气质,同时有助于避免阳光直射室内空间。如此,研发办公空间获得了柔和的非直射自然光线。
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