在半导体工业中漂洗水里所含的有机化合物会影响产品的产量和质量，因此规定水中的总有机碳（TOC）污染物的含量不得超过百万分之一（ppb），即在此应用中只能使用超纯水。
紫外照射技术的强大发展使其成功地被引入到半导体、制药、化妆品、保健品等工业的超纯水制造中。此项技术不仅在消毒方面发挥巨大的作用，在降低TOC、去除臭氧和氯方面也效果显著。
在这一应用中使用两种UV波长：254nm和185nm。254nm波长的紫外光用于消毒作用，同时能破坏水中的残留的臭氧分子。185nm辐射能分解有机物分子，它比254nm波长的能量更高，能从水分子中分解出自由羟基，从而将有机物氧化分解成二氧化碳和水。
185nm紫外线灯管所使用特殊的石英材料对较低的波长就有高透过率。通常要求的照射量为100到500mJ/c㎡之间，飞利浦XPT汞齐灯发射185nm谱线，而HOK和HTK中气压放电汞也能提供极佳的效果。
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