真空镀膜的光密度检测法

真空镀膜是在真空条件下，对光学零件镀膜的工艺过程，一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。真空镀铝膜的生产过程中可以使用光密度检测仪、真空镀膜在线测试仪来进行品质监控。

光密度检测仪也叫光密度计，检测的原理有四种测定方式：
1：测量薄层斑点透射光强度的透射法，适用于可见光区，其主要缺点是吸着剂和玻璃板本身会有吸收，而且薄层厚度不均匀会引起基线不稳，对测量的准确度有影响；
2：测量薄层斑点反射光强度的反射法，适用于紫外-可见光区，要求薄层表面十分平整；
3：同时测定透射光和反射光的透射-反射法，记录两种光信号值之和，这种方式较理想，基线平稳，测量误差小，灵敏度高；
4：如果化合物本身有荧光或经过适当处理后生成荧光化合物者也可用荧光测定法。


真空镀膜产品

真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

真空镀膜光密度测试范围就是线性范围，光密度值在这个范围内与待测试液的浓度成线性关系。由于真空镀膜的厚度非常薄，所以必须通过光学性质来检测其镀膜厚度的均匀性。光密度在线检测仪就是专门为真空镀铝膜而设计生产的。