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氧化沟工艺中曝气设备的发展概况论文简介: 氧化沟处理工艺中的曝气设备是随着氧化沟处理技术的深入研究和广泛应用而逐渐发展起来的。近年来,在国内外氧化沟处理工艺中得到广泛应用的曝气设备种类很多,本文就其中的几种常用曝气设备(曝气转盘、曝气转刷、立式表面曝气机、抽吸式曝气机和微孔曝气板)的特性与发展进行简要的介绍。 附件名:20051101105321043627/1.htm 文件大小:15K (升级VIP
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只看楼主 我来说两句抢地板单独的一个氧化沟恐怕它的cod去除率没有这么高吧
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1、关于DO(图2)。距曝气机近的,DO肯定会很高,远的则很低,显然以每条沟的平均值来计算是不妥的——就像以平均DO值来衡量A/O工艺中的A段和O段一样(假设A段是0.5,O段是2,就以1.25来说明显然是不合适的)。
2、关于图3。Carrousel氧化沟也涉及到内外回流,稀释作用是如何考虑的?图中表示的测得的浓度,没有作过氮平衡,显然是看不出SND来的。换言之,就用相当于多个A/O工艺的串联组合也可以解释的通。
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