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请问一下各位以下工艺流程出水能否达到出水电导率<0.3μs/cm 二氧化硅<20μg/L.另请问一下其中的Na床和H床在此工艺中起什么作用?谢谢大家,请大家顶一下.急需答案. 地下水→生水池→生水泵→换热器→石英砂过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→高压泵→反渗透装置→除二氧化碳器→中间水池→中间水泵→Na床→H床→软化水箱→软化水泵→主厂房除氧器在此深表感谢!!!
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