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问题:半导体工业中光刻工序产生的废水。正型光刻胶和正胶显影液在紫外线下曝光后的产物。光刻胶成分:酚醛树脂,叠氮化合物,丙二醇甲基乙酸酯。正胶显影液成分:四甲级氢氧化铵。曝光后的成分现在不是很清楚,水量大概一天五吨。我现在需要知道对这种废水处理的基本思路,该有什么步骤加什么药等,请问有哪位大虾知道的?帮帮忙啊!紧急!

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  • liyan0916
    竖流沉淀池出水进入缓冲池。废水用泵抽入碳滤器吸附,过滤后的水排入清水池,最后出水达标排放。同时,清水池内的水可作为过滤器的反冲洗水源。
    2006-07-25 12:54:25 来自 PC 评论 举报
  • liyan0916
    光刻废水从车间流入集水井,自吸泵泵入调节水箱,废水泵入内电解反应器,其中酚醛树脂、叠氮化合物、丙二醇甲基乙酸酯和四甲基氢氧化铵等大分子物质经过内电解处理后,由于新生态物质Fe2+,H的氧化还原作用,一些不饱和键打开使发色基团破坏,硝基物转化成胺基物,大分子物质分解成小分子的中间体,在发挥脱色作用的同时,使CODB值往往高于原水,改变了废水的可生化程度,为后续生化处理创造了有利条件。废水进入反应池,在中和池中计量泵投加絮凝剂,机械搅拌;废水在斜板沉淀池内澄清。出水进原调节池或进集水井循环处理。污泥定期排放。
    2006-07-25 12:53:25 来自 PC 评论 举报
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这个家伙什么也没有留下。。。

市政给排水

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