发布于:2011-08-29 14:57:29
来自:施工技术/建筑施工
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CMC静水压力释放层技术
CMC静水压力释放层技术是集永久性改变土层动态渗流压,使基底水压保持固定值、控制地下水浮力对结构体的影响和永久保持地下室干燥功能的工艺方法。具有施工周期短、造价低、节约材料、污染公害小等优点,可应用于新建、扩建建(构)筑物的基础抗浮工程。
1.0.1 为贯彻国家技术、经济、环保政策,加强CMC静水压力释放层技术的管理,遵循安全适用、技术先进、经济合理、省时省料,确保质量、保护环境等原则。
1.0.2 适用于基础底部水浮力大于上部结构荷载的建(构)筑物、地下车库、地下商场、地铁车站、地下道路等基底消浮工程的设计、施工及验收。
1.0.3 CMC静水压力释放层技术适用条件为基底下方存在地基土层为厚2m以上,渗透系数小于等于10-5 cm/s,且每天每平方米的渗流水量应小于等于0.03m3的粘性土、粉性土。
一种用于基础底部消除过大地下水浮力造成结构危害的处理方法。该技术是在基底下方设置静水压力释放层,使基底下的压力水通过静水压力释放层中的透水系统,汇集到集水系统,经由集水系统自然溢流进入出水系统,通过出水系统将渗流水导至专用水箱或集水井中排出,使静水压力及时得到控制的工艺方法。
适宜以下结构土层:
1 围护结构为止水帷幕设计时,止水帷幕设计应符合《基坑工程技术规程》(DG/TJ08-61)及相关规定,基础下方必须有厚度大于2.0m且渗透系数k 小于等于10-5 cm/s的土层。
2 围护结构非止水帷幕设计时,地表至基础下方2m必须全部为渗透系数k 小于等于10-5 cm/s的土层。
3 渗流水量Q必须小于等于0.03 m3/m2/d。
4 非止水帷幕严禁采用拔除式围护结构。
应用CMC静水压力释放层技术时应考根据不同工程的地质条件、工程性质等因素,进行具体的分析。符合本系统技术应用条件的方可进行设计应用。该技术在台湾已经完成的项目近60多个,工法的使用已经达30多年,技术完全成熟工法,目前已经拥有六国(美国、日本等)专利,每一个完成项目和传统抗拔桩比较,成本节约上千万以上,该工法工期一般只需3至7天左右即可完成(每天可完成一千到二千平米)(而抗拔桩最短也要3个月以上)一对比差别非常明显了,对企业来讲时间就是投资成本。
国内现在目前还没有那个技术完全可以保证渗水问题。一旦出现渗水也只能用高压注浆,这种补渗漏方法是不能够彻底解决的,而且要经常返修,费用也是很不确定的大问题。但是你如果使用CMC静水压力释放技术,我们具有永久不渗漏的保证性。不是随便开口说句保证,而是根据一定使用案例和技术评估得到的一个保证。贵司要用传统抗拔桩加上那么长工期,投资成本和环境污染将是一个重大问题。何不参考我们这个技术,先了解,我给你发份简报,感兴趣再详细了解也不迟,下面是几个事例:
1 新光三越信义百货
地质概况:①回填土渐变为黄棕色沉泥质粘土偶夹碎砖块与砾石,埋深GL-2.6m±0.5m;②灰色沉泥质粘土,上层埋深GL- 2.1m~-12.6m、中层埋深GL-12.6m~-24.0m、下层埋深GL-20.0m~-33.0m;③沉泥质粘土偶夹沉泥质细砂,偶有卵砾石及岩块层,埋深GL-29.5m~-57.1m;④灰黑色泥质砂岩夹砂质叶岩,埋深GL-51.0m~-57.1m。
施工时间:1996/06
地点:台北市松寿路
基地面积: 6,436m2
施工面积: 6,436m2
开挖深度: 21.4m
基础型式: 箱型基础(2.0m)
结构型态: 地上7层、地下5层
底板水压: 约1.7t/m2
平均出水量: 约0.2m3/d 比起传统抗拔桩节约8300万
2 远东爱德蒙厂办
地质概况:①回填混凝土块、沉泥质粘土、细砂、岩块、砖块、卵砾石及杂物埋深
GL-0.0m~GL-3.15m;②沉泥质粘土偶夹细砂夹层埋深GL-3.15m~GL -33.2m;③沉泥质细砂与粘土互层偶夹卵砾石薄层埋深GL-33.2m~GL -51.2m;④卵砾石夹粗细砂埋深GL-51.2m~GL -54.2m;⑤岩层(泥质砂岩偶叶岩)埋深GL-54.2m~GL -57.2m。
施工时间: 1998/06
地点: 台北县中和
基地面积: 21250m2
施工面积: 5664m2
开挖深度: 14.8 m
基础型式: 箱型基础(2.0m)
结构型态: 地上0层、地下3层
底板水压: 约1.0t/m2
平均出水量: 约1.4m3/d 比起传统抗拔桩节约7300万
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只看楼主 我来说两句 抢板凳GL-0.0m~GL-3.15m;②沉泥质粘土偶夹细砂夹层埋深GL-3.15m~GL -33.2m;③沉泥质细砂与粘土互层偶夹卵砾石薄层埋深GL-33.2m~GL -51.2m;④卵砾石夹粗细砂埋深GL-51.2m~GL -54.2m;⑤岩层(泥质砂岩偶叶岩)埋深GL-54.2m~GL -57.2m。
施工时间: 1998/06
地点: 台北县中和
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