偏铝酸钠VS氧化镁：选对除硅方法事半功倍！

偏铝酸钠VS氧化镁：选对除硅方法事半功倍！

工业水处理中，硅污染是许多企业的“心头大患”——反渗透膜易堵塞、锅炉易结垢、半导体用水纯度难达标……如何高效除硅？偏铝酸钠与氧化镁是两种主流方案，但适用场景和效果差异显著。本文从水质匹配性、成本、操作细节等角度全面对比，助您精准选择工艺！

一、适用水质对比

1.偏铝酸钠

适用水质：

（1）低硬度水质（Ca??+Mg??＜100 mg/L），避免钙镁离子与硅竞争吸附。

（2）兼容高盐废水（如电镀、光伏行业废水），对总溶解固体（TDS）无负面影响。

（3）对含有机物较多的水质适应性较强，无需额外调节有机物浓度。

限制条件：

高硬度水需先软化处理，否则钙镁离子会降低除硅效率

2.氧化镁

适用水质：

（1）高硬度水质（尤其是碳酸盐硬度高的原水），生成的沉淀物多，有利于硅的吸附和共沉淀

（2）非碳酸盐硬度高时，残留碳酸根减少，有利于硅酸根（HSiO??）被吸附

 

限制条件：

有机物含量高时需增加混凝剂投量，否则会阻碍沉淀物结晶

二、操作条件对比

1.pH值范围

（1）偏铝酸钠：需弱碱性环境，最佳pH为8.0–8.5，pH＞9时硅酸根易溶解，导致复溶风险；pH＜8则胶体生成不足

（2）氧化镁：需强碱性环境，最佳pH为10.0–11，pH过高（＞11.5）会降低吸附效率，甚至导致硅化合物溶解

2.反应时间

（1）偏铝酸钠：常温（20–25℃）即可高效反应，升温至40℃可缩短时间。反应时间30分钟可达90%去除率，1小时可提升至99%

（2）氧化镁：需与石灰软化协同使用，反应时间＞1小时，最佳水温为40℃

三、物耗与运行成本对比

1.药剂投加量

（1）偏铝酸钠：投加量为SiO?含量的2–3倍（质量比），例如去除10 mg/L SiO?需20–30 g/m?

（2）氧化镁：投加量为SiO?含量的8–12倍（如10 mg/L SiO?需80–120 g/m?）

2.辅助药剂需求

（1）偏铝酸钠：需搭配聚合氯化铝（PAC）或聚丙烯酰胺（PAM）增强絮凝

（2）氧化镁：与石灰除硬联合使用，并配合铁盐混凝剂（如聚合硫酸铁）

3.产泥量

（1）偏铝酸钠：污泥量仅为氧化镁法的1/3–1/2，固废处置成本低

（2）氧化镁：产泥量大，需额外处理沉淀物，运行成本较高

四、产水指标对比

（1）偏铝酸钠：硅残留≤5mg/L，可直接用于膜过滤系统

（2）氧化镁：硅残留约20mg/L，需二次处理

1.泥渣特性：偏铝酸钠絮体细小，需管式膜过滤；氧化镁泥渣密实，但易浮泥

2.副产物控制

（1）偏铝酸钠：铝离子残留＜1 mg/L，避免后续膜污染

（2）氧化镁：需调节pH至中性，可能引入钙盐残留

五、总结

1.技术选择建议：

（1）偏铝酸钠：适合低硬度、高盐废水及对产泥量敏感的场合，运行成本低

（2）氧化镁：适合高硬度水质，建设成本低但药剂和污泥处置成本高

2.工艺协同：两者均可搭配膜技术（如管式膜ePTFE膜）提升分离效率

3.经济性权衡：需结合水质特性、投资预算和长期运行成本综合决策。