常用的一级RO+二级EDI+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度高，有机物含量高，电导率高（小于1000μs/cm），要求产水电阻率18～18.2MΩ·cm的超纯水系统
常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度高，有机物含量高，电导率（小于1000μs/cm），要求产水电阻率15～18MΩ·cm的超纯水系统
常用的一级RO+二级EDI电子+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度低，有机物含量低，电导率高（小于1000μs/cm），要求产水电阻率18～18.2MΩ·cm的超纯水系统
常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度低，有机物含量低，电导率高（小于1000μs/cm），要求产水电阻率15～18MΩ·cm的超纯水系统图 7是常用的一级EDI全系统组成图。
常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI+MB电子Ⅰ级超纯水系统组成图
适合于源水硬度低，有机物含量高，电导率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm时，要求产水电阻率18～18.2MΩ·cm的纯水系统
常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI电子Ⅱ级超纯水系统组成图
适合于源水硬度低，有机物含量高，电导率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm时，要求产水电阻率15～18.0MΩ·cm的的纯水系统。
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超纯水系统工艺介绍及特殊管道施工要求前言 随着电子工业的发展，在芯片的生产加工过程中，对于水质的要求也越来越高。为了保证生产出超大规模的集成电路，除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品外，高纯水也是其中最关键的因素之一。高纯水系统是将一般的市政用水处理成对不同离子的含量和颗粒度都有很高要求的超纯水。 超纯水系统总体来说一般可分为三个部分：超纯水制造区(CUB部分)、超纯水抛光循环区(FAB部分)、超纯水输送管网(FAB各使用区)。其中超纯水制造区最为复杂，其又可分为:预处理、一次纯水处理、超纯水处理三个部分。
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