芯片厂废气如何处理？酸性废气处理适应哪些设备？

1.酸性废气净化机器设备——喷淋塔原理

喷淋塔清洁基本原理是将气体中的环境污染化学物质提取，转换为没害化学物质，以做到清洁气体的目地。它归属于求微分触碰倒流式，塔身体的填料是汽液两相触碰的基础预制构件，塔架外界的气体进到塔架后，汽体进到填料层，填料层上面有来自于顶端自喷液體及前边的自喷液體，并在填料上产生一层液膜，汽体流过填料间隙时，与填料液膜触碰并开展消化吸收或综合性反映，填料层能出示充足大的面积，对汽体流动性又不至于导致过大的摩擦阻力，经消化吸收或综合性后的气体经屋脊式除雾器搜集后，经通风口排出来塔外。

2.芯片厂酸性废气简述

芯片厂在生产工艺流程中应用各种各样酸液清理、离子注入集成ic等全过程中造成HF、HCl、盐酸雾等酸性气体。针对芯片厂公司在生产工艺流程全过程中造成的腐蚀汽体（如酸、偏碱废气）的整治，现阶段大多数公司选用液體消化吸收法整治，选用液體消化吸收法整治该废气，关键所在废气净化机器设备的挑选。酸性废气整治一般选用喷淋塔，根据酸碱中和反映来清洁酸性气体。

3.芯片厂废气工艺处理表明

生产线酸洗池有机气体废气经风罩搜集，经济管理道再进到酸性废气净化机器设备，酸雾吸收塔体置放二层填料层并配备二级水浴设备，并在循环系统蓄水池里加氢氧化钠溶液（通称碱），以中合废气中的有机气体，有机气体解决塔的上方喷嘴喷出来消化吸收液分布均匀在填料上，废气与消化吸收液在填料表层上充足触碰，因为填料的冲击韧性大、抗腐蚀、空隙率高、表层大的特性，废气与消化吸收液在填料表层有较多的触碰总面积和反应速度。清洁后的汽体会蕴含水分历经塔上的除雾设备除去水分后立即排污空气中。

4.酸性废气净化设备的适用范围

酸性废气净化设备通常用于由电子设备，化工厂，电镀工艺，硬件，铝型材，电气设备，制药，印染厂以及其他机械加工和制造行业造成的有害废气，例如：硫酸 （HCI），氟化氢蒸气，二氧化氢（HF），二氧化氮（NH3），盐酸雾（H2SO4），铬酸雾（CrO3），氢氰酸蒸气（HCN），碱蒸气（NaOH），硫化氢气体（ H2S），Forma Forest溶液（HCHO）和其他水溶性蒸汽。

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