半导体超纯水设备用膜应该如何保养呢

　　现在的半导体超纯水设备用膜的工业应用十分广泛，是新型化工单元操作之一。可以用于分离、浓缩、纯化生物制品、医药制品以及电池工业中。那么半导体超纯水设备用膜如何合理保养呢? 半导体超纯水设备用膜必须进行定期清洗，以保持一定的膜透过通量，并延长膜的寿命。清洗方法一般根据膜的性质和处理料液的性质来确定。通常和反渗透相类似，即先以水力清洗，而后根据情况采用不同的化学洗涤剂进行清洗，例如对电涂材料可以选用含离子的增溶剂，对水溶性有机涂料可以用“桥键”型溶剂。

　　物理方法是利用器械的力来清除膜表面的污染物，没有任何化学反应，所以比较简单，方便，健康。下面简单给大家介绍几种实用的。

　　1、对于一般的膜孔不是特别细小的可拆式的超滤滤芯，可直接拆开用柔软物质一边擦拭一边用清水冲洗。

　　2、用海绵球擦洗，根据膜管直径大小，选择合适的海绵球，利用专用设备通过膜管进行擦拭清洗，可以反复使用。

　　3、热水冲洗法将水加热到(30-40℃)，然后冲洗膜表面，去那些黏稠或者是热溶的杂质效果很好。

　　半导体超纯水设备用膜没有使用前一般都是浸入保护液中进行密封保存以防止湿态膜脱水后产生收缩，膜孔变小，使膜结构破坏，水通量下降。

　　短期保存：半导体超纯水设备用膜如暂停使用时(少于10天时间)应对超滤膜杀菌反冲洗一次，在反冲洗水中加入15ppm(ml/L)的HY-240杀菌剂后再将半导体超纯水设备用膜的进水阀、排放阀和调节阀关闭，保持半导体超纯水设备用膜的密封和灭菌作用。

　　长期保存：半导体超纯水设备用膜如长期停止使用时(超过10天)，先对半导体超纯水设备用膜进行杀菌反冲洗一次，然后在半导体超纯水设备用膜内注入HY-310保护液后密封保存。

　　以上为大家介绍的就是正确保养半导体超纯水设备用膜的方法，希望对大家有帮助。