芯片超纯水设备在使用过程中常常会出现哪些问题?下面为您详细汇总：
1、给水压力低
原因：给水流速不适当，系统泄漏。高压泵入口水压力不足或泵部漏水、漏气。精密过滤器滤芯污堵，高压泵故障。
2、给水压力高
原因：高压泵出口门调节不当。从高压泵到反渗透设备之间的管道堵塞。浓调节门关的太紧或堵塞，浓水排放流量小。回收率太低。
3、回收率低
原因：给水流速过高。给水压力或浓度低。
4、芯片超纯水设备两端压降高
原因：浓水流速高。膜元件污染。
5、设备产水电导和浓水电导率同时升高
原因：浓水管道或浓水调节阀污堵。回收率过高。
6、每段压力容器两端压降大，产品水流量低，产品水电导有所增加。
原因：膜元件通道污染、堵塞。
以上为大家介绍的就是芯片超纯水设备在使用过程中常出现的问题及原因，希望对大家有帮助。
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EDI去离子水设备常见的应用领域有哪些EDI去离子水设备应用越来越广泛，主要应用领域如下： 1、电镀 电镀因其工序的原因，为保证电镀的精纯与均匀，所用到的电溶液用水要求较高，必须是EDI去离子水设备才能满足。 2、电厂 电厂用的纯水水质一般都要达到一级水标准，专业的电厂内行人都会用双级反渗透加混床或者EDI来制取。 3、化工 化工行业分支繁多，规模一般较大，基本上都要用到EDI去离子水设备，但因细分行业繁多，所以要求也各不一样，我们可根据实际情况定制设备。
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