单晶硅是半导体材料,其性质介于导体和绝缘体之间,是一种具有灰色金属光泽的单质硅。单晶硅清洗超纯水设备的工艺优势明显,下面就为大家介绍一下单晶硅清洗超纯水设备的工艺流程。
单晶硅清洗超纯水设备工艺流程
1、反渗透系统一般包括预处理、主机以及辅助设备,但辅助设备并不是必需的。
2、简单的预处理工艺一般至少包括多介质过滤器、软化或阻垢剂添加设备和精滤。
3、较完全的预处理工艺可以包括絮凝剂添加设备、多介质过滤器、活性碳过滤器、软化或阻垢剂添加设备、热交换器、精滤和PH值调节设备。
4、EDI组件可连续地生产超纯水,电导率高达18.2MΩcm。EDI既可以连续地运行也可以间歇性地运行。
以上就是为大家介绍的单晶硅清洗超纯水设备的工艺流程,希望对大家能够有所帮助。
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水处理
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为什么集成电路超纯水设备膜块会堵塞集成电路超纯水设备是一种专门应用在集成电路行业中的超纯水设备,集成电路超纯水设备是由很多个配件组成的设备,很多人对于集成电路超纯水设备的配件了解比较少,下面为大家介绍一下集成电路超纯水设备膜块堵塞原因: 1、进水中含有大量的颗粒以及胶体等物质造成膜块污堵。 2、进水中含有大量的无机物造成膜块污染堵塞。 3、进水中含有大量的有机物造成EDI膜块堵塞。 4、进水中含有大量的微生物造成EDI膜块堵塞。
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