半导体行业超纯水设备各部件的维护技巧有哪些?下面我们共同了解:
1、产水量是日常维护保养工作与正常生产需要持续关注的运行指标。
进水水温、操作压力等因素都会影响整个半导体超纯水设备的产水量,排放量的控制将直接影响设备的脱盐率,适时的对排放量进行合理的调整才能有效保证产水水质。
2、维持设备低压安全运行
半导体行业超纯水设备中反渗透膜是整个系统中原水纯化过程的核心部件,反渗透膜的使用寿命与运行环境将极大的影响设备的正常运行。在产水量与水质都达到生产标准的情况下,保持系统在适当的低压运行状态有利于降低反渗透膜水通量的衰减,极大的减少设备膜的更换率,延长使用寿命。
3、严控设备阀门调节与使用
任一阀门都是重要的功能性部件,一经调试完成,严禁随意调节与开关。半导体行业超纯水设备RO进水调节阀与RO浓排调节阀更是需要严密关注的重要阀门,在总进水量与系统回收率等参数没有变化的情况下,需保持原位。
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半导体工业用超纯水设备特点是什么半导体产品清洗用超纯水设备关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。半导体超纯水设备我公司设计的超纯水设备采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的二级反渗透 EDI 精混床除盐水处理工艺,确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2MΩ.cm。
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