触摸屏清洗纯水设备特点以及应用工艺介绍

　　触摸屏清洗纯水设备主要采用预处理装置、反渗透系统、超纯化处理以及后处理等组成，该工艺可以将水中的导电介质完全去除掉，出水电阻率可以达到18兆欧以上。触摸屏清洗纯水设备针对硅片切割用水要求设计，受到用户的广泛认可。下面莱特莱德小编为您介绍：

　　触摸屏清洗纯水设备特点

　　1、零部件均采用进口产品，技术先进。

　　2、质量可靠，整体化程度高，易于扩展，增加膜数量即可增加处理量。

　　3、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。

　　4、膜组件为复合膜卷制而成，表现出更高的溶质分离率和透过速率。

　　5、能耗低，水利用率高，运行成本低。

　　6、结构合理，占地面积少。

　　7、先进的膜保护系统，在设备关机，淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净，延长膜寿命。

　　8、系统无易损部件，无须大量维修，运行长期有效。

　　9、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

　　触摸屏清洗纯水设备常用工艺主要分为以下三种：

　　1、采用离子交换方式，其流程如下：

　　原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点

　　2、采用两级反渗透方式，其流程如下：

　　原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透 →PH调节→中间水箱→二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

　　3、采用EDI方式，其流程如下：

　　原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点