半导体行业在生产过程中,半导体中电解液的配置对水质的要求非常的严格,而半导体超纯水设备大大满足了客户的用水需求,保证了半导体超纯水设备的安全使用。下面简单的介绍下半导体超纯水设备工作原理:
电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下,通过隔板的水中电介质离子发生定向移动,利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜,阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列,构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜)。
淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留,水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留,这样通过淡室的水中离子数逐渐减少,成为淡水,而浓室的水中,由于浓室的阴阳离子不断涌进,电介质离子浓度不断升高,而成为浓水,从而达到淡化、提纯、浓缩或精制的目的。
以上就是莱特莱德小编为大家介绍的全部内容,半导体行业是我国经济发展重要的行业,所以在半导体生产中所使用的水质不容小觑。
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水处理
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精细化工超纯水处理系统工作原理及应用范围精细化工行业生产过程中对水质要求较高,超纯水处理系统成为企业必要选择。下面为大家分享精细化工超纯水处理系统工作原理及主要应用于哪些范围? 精细化工行业超纯水处理系统工作原理: EDI模块将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI模块在直流电的推动下,通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统,成为浓水。超纯水处理系统一般以二级反渗透纯水作为EDI给水。RO纯水电阻率一般是40-2μS/cm(25℃),EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃)。
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